| 发明名称 | 多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多重反应模式的混合负型光阻剂及形成光阻图案的方法；该混合负型光阻剂包括树脂化合物、重量百分比为0.1-35％的光聚合起始剂、重量百分比为0.1-100％的自由基反应性单体、重量百分比为0.1-35％的光酸产生剂、及重量百分比为0.1-35％的阳离子反应性单体；其中该重量百分比以树脂化合物的重量为基准；采用本发明的光阻剂及形成光阻图案的方法，可以用来控制光阻剂的光反应效率并增加反应完整度，得到更佳的光阻分辨率。 | ||
| 申请公布号 | CN1280675C | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN03101762.2 | 申请日期 | 2003.01.22 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院;长春人造树脂厂股份有限公司 | 发明人 | 宋清潭;庄志新;曾炜展;黄坤源;陈聪裕 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 楼仙英;潘培坤 |
| 主权项 | 1.一种多重反应模式的混合负型光阻剂，为均匀的有机溶液，包括：(a)树脂化合物，其分子量为5000-250000，其酸价为50-250mgKOH/g；(b)重量百分比为1-10％的光聚合起始剂；(c)重量百分比为5-25％的自由基反应性单体；(d)重量百分比为0.1-10％的光酸产生剂；以及(e)重量百分比为5-25％的阳离子反应性单体；其中该重量百分比以该光阻剂组成成分的总重量为基准。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹县 | ||