| 发明名称 | 一种紫外线检测装置 | ||
| 摘要 | 一种紫外线检测装置，包括如下的结构：一蓝宝石基底层；一高温氮化铝缓冲层，生长在该蓝宝石基底层之上；一中温氮化镓缓冲层，生长在该高温氮化铝缓冲层之上；一氮化镓外延层，沉积在该中温氮化镓缓冲层之上；一肖特基结层，形成在该氮化镓外延层之上；多个电阻触点，也形成在该氮化镓外延层上；该高温氮化铝缓冲层和该中温氮化镓缓冲层形成了双重缓冲层结构，从而提高了该紫外线检测装置的稳定性和耐辐射性。其中该高温氮化铝缓冲层和该中温氮化镓缓冲层由射频等离子体增强分子束磊晶成长技术形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1848461A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200510065762.0 | 申请日期 | 2005.04.15 |
| 申请人 | 香港理工大学 | 发明人 | 徐星全 |
| 分类号 | H01L31/09(2006.01);G01J1/02(2006.01) | 主分类号 | H01L31/09(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王玉双;王艳江 |
| 主权项 | 1、一种紫外线检测装置，其特征在于，包括如下的结构：一蓝宝石基底层；一高温氮化铝缓冲层，生长在该蓝宝石基底层之上；一中温氮化镓缓冲层，生长在该高温氮化铝缓冲层之上；一氮化镓外延层，沉积在该中温氮化镓缓冲层之上；一肖特基结层，形成在该氮化镓外延层之上；多个电阻触点，也形成在该氮化镓外延层上；该高温氮化铝缓冲层和该中温氮化镓缓冲层形成了双重缓冲层结构，从而提高了该紫外线检测装置的稳定性和耐辐射性，其中该高温氮化铝缓冲层和该中温氮化镓缓冲层由射频等离子体增强分子束磊晶成长技术形成。 | ||
| 地址 | 香港九龙红磡 | ||