发明名称 存储器件和使用及制造该器件的方法
摘要 本发明公开由两个电极(106,202,108,204)所构成的存储单元(104),该两个电极之间具有可控制导电介质。可控制导电介质(110)含有有源低导电层(112)和无源层(114)。若于可控制导电介质(110)上施加外界刺激如施加电场时时,该可控制导电介质会改变其阻抗。本发明也公开制造存储器件/单元的方法、使用该存储器件/单元的方法,以及例如含有该存储器件/单元的计算机的器件。
申请公布号 CN1849718A 申请公布日期 2006.10.18
申请号 CN200480025672.2 申请日期 2004.05.21
申请人 先进微装置公司 发明人 Z·蓝;M·A·范巴斯柯克;C·S·比尔
分类号 H01L51/05(2006.01);H01L27/28(2006.01);H01L27/24(2006.01);G11C13/04(2006.01);G11C13/02(2006.01) 主分类号 H01L51/05(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 程伟;戈泊
主权项 1.一种存储单元(104),包括:第一电极(106、202);第二电极(108、204);以及位于第一电极和第二电极之间的可控制导电介质(110),该可控制导电介质包括:低导电层(112),其包括至少一种共轭有机聚合物、共轭有机金属化合物、共轭有机金属聚合物、巴克球、碳纳米管、低导电性硫属化合物、及过渡金属氧化物,以及无源层(114),其包括导电促进层。
地址 美国加利福尼亚州