发明名称 |
漏极开路电路的MOSFET及其半导体集成电路器件 |
摘要 |
在传统的漏极开路电路的N沟道MOSFET中,在将正静电电荷施加在其漏极上时,不存在通过其对静电电荷进行放电的通路,导致了相当低的静电耐压。为了克服此问题,按照本发明,一种漏极开路N沟道MOSFET,具有由N型半导体层形成的漏极区、在所述漏极区中形成的P型杂质扩散层、在所述漏极区中形成以将所述P型杂质扩散层夹在中间的两个高浓度N型杂质扩散层、以及与所述P型杂质扩散层相连并与所述两个高浓度N型杂质扩散层相连的漏极电极。在将正静电电荷施加在漏极上时,寄生晶体管开始形成通过其对静电电荷进行放电的通路。 |
申请公布号 |
CN1280921C |
申请公布日期 |
2006.10.18 |
申请号 |
CN200310120414.X |
申请日期 |
2003.12.11 |
申请人 |
罗姆股份有限公司 |
发明人 |
西川英敏;园田雅彦 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L27/04(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
朱进桂 |
主权项 |
1、一种漏极开路N沟道MOSFET,包括:由N型半导体层形成的漏极区;在所述漏极区中形成的P型杂质扩散层;在所述漏极区中形成并将所述P型杂质扩散层夹在中间的两个高浓度N型杂质扩散层;以及与所述P型杂质扩散层相连并与所述两个高浓度N型杂质扩散层相连的漏极电极。 |
地址 |
日本京都府 |