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发明名称
基材外周处理方法及装置
摘要
本发明在除去基材外周部不需要之膜之处理中,不致损及基材之部。本发明系在载台10之内部设置冷媒室41作为吸热机构,其中填充水等冷媒。并使晶圆90接触支撑于该载台10之支撑面10a上。以加热器20将该晶圆90之外周部加热,并自反应性气体喷出口30b供给除去不需要之膜用之反应性气体至该加热之部位。另外,对于比晶圆90之外周部更靠近内侧之部分则以上述吸热机构予以吸热。
申请公布号
TW200636801
申请公布日期
2006.10.16
申请号
TW094123262
申请日期
2005.07.08
申请人
积水化学工业股份有限公司
发明人
野上光秀;长谷川平;功刀俊介
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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