用于垂直熔炉之半导体晶圆容器

摘要

一种在一垂直熔炉中用于半导体晶圆之热处理的晶圆容器，该晶圆容器包含支撑杆，其当该晶圆容器置于垂直熔炉内时大体上垂直地延伸。指状件系由支撑杆支撑且沿支撑杆之垂直范围延伸。晶圆固定器平台系调适以藉由在大体上不同共水平面处的指状件群支撑。指状件系调适以在晶圆固定器平台之下，且在支撑位置处支撑该等平台。指状件及晶圆固定器平台各具有一个别的第一总体最大厚度。指状件及晶圆固定器平台之至少其一的支撑位置具有一少于第一总体最大厚度之第二最大厚度。