用于制造使用去除处理技术之干涉装置之方法

摘要

本揭示之实施例包括一种使用去除处理技术来制造干涉装置之方法。在制造干涉调变器之各层中(诸如一光学堆叠或一挠曲层)去除处理之使用有利地避免与复数个材料相关联之个别化之化学物品，其中该等复数个材料与其每一层相关联。此外，去除处理之使用允许在可用于制造干涉调变器之材料及设施中具有更多的选择。