| 摘要 |
本发明系有关于一种金属微结构之制备方法，包括步骤如下：(a)提供一表面具有图像(pattern)之基材、一化学镀液、以及一具加热装置与冷却装置之镀槽；(b)以加热装置加热反应区域之化学镀液，且亦以冷却装置同时冷却非反应区域受热之化学镀液；(c)将基材置入化学镀液内，且基材被镀面与加热装置之间保持一间隙；(d)取出基材；(e)将基材固定于镀槽底部，并由加热装置直接加热基材；以及(f)取出基材；本发明之方法不须经过贵金属敏化、活化，可直接在基材表面进行化学析镀，且程序简单、亦能提供一高析镀速率之高深宽比(high aspect ratio)的金属结构。 |
