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发明名称
投影光学系统、曝光装置、曝光系统及曝光方法
摘要
为提供一种投影光学系统,可高精度且容易进行图案之重叠曝光。其解决手段在于,用来将第1面M之像形成于第2面P上之投影光学系统PL,至少具备1个第1楔形棱镜4,在入射面及出射面具有平面、且该入射面之平面与该出射面之平面具有既定之第1楔角;在以该第1面M的法线方向为Z轴方向、以该入射面的平面与该出射面的平面之交线方向为X轴方向、并以正交于该Z轴方向及X轴方向之方向为Y轴方向时,该第1楔形棱镜4能以大致该Y轴方向为轴而旋转。
申请公布号
TW200636392
申请公布日期
2006.10.16
申请号
TW094144433
申请日期
2005.12.15
申请人
尼康股份有限公司
发明人
大村泰弘
分类号
G03F7/20;G02B27/18;G02B27/09;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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