化学增强正型光阻材料及图型之形成方法

摘要

本发明系为提供化学增强正型光阻材料，其系含有(A)含有缩醛型以外之酸不安定基，并经酸的作用令该酸不安定基脱离而变化对于硷性显像液之溶解性的树脂(B)下述式(1a)之盐及下述式(1b)之盐。095105465-p01.bmp095105465-p02.bmp本发明之化学增强正型光阻材料，经由含有不含缩醛型之酸不安定基且经酸之作用变化对于硷性显像液之溶解性的树脂、和上述光产酸剂，则可令解像性、焦点充欲度优良，且PED即使于长时间亦为线宽变动、形状恶化少，显像后之图型仿型加工形状优良，具有高解像性，且无经由显像斑所造成之晶圆面内的图型尺寸变动，特别以远紫外线光刻可大为发挥威力。