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发明名称
Sputtering device for metal doping having magnetism transfer means and method for control the same
摘要
申请公布号
KR100632284(B1)
申请公布日期
2006.10.12
申请号
KR20040115117
申请日期
2004.12.29
申请人
发明人
分类号
C23C14/35
主分类号
C23C14/35
代理机构
代理人
主权项
地址
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