Halbleiterchip mit einer Lötschichtenfolge und Verfahren zum Löten eines Halbleiterchips

摘要

Bei einem Halbleiterchip (1), auf den eine zur Herstellung einer Lötverbindung vorgesehene Schichtenfolge (2) aufgebracht ist, wobei die Schichtenfolge (2) eine Lotschicht (15) und eine vom Halbleiterchip (1) aus gesehen der Lotschicht (15) nachfolgende Oxidationsschutzschicht (17) umfasst, ist zwischen der Lotschicht (15) und der Oxidationsschutzschicht (17) eine Barriereschicht (16) enthalten. Dadurch wird verhindert, dass ein Bestandteil der Lotschicht (15) vor dem Lötvorgang durch die Oxidationsschutzschicht (17) diffundiert und dort eine für die Herstellung einer Lötverbindung nachteilige Oxidation bewirkt.