摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Messung charakteristischer Eigenschaften eines Plasmastrahls in einem thermischen Spritzprozess, umfassend Mittel zur Zuführung von Spritzmaterialien in das Plasma, ein ein- oder zweidimensionales Array aus ersten Lichtleitfasern (2a) zur Aufnahme der vom Plasma (1) ausgesandten Lichtstrahlung und weiteren Lichtleitfasern (2b, 2c) zur Verteilung der vom Plasma (1) ausgesandten Lichtstrahlung. Gemäß der Erfindung sind Mittel (W) vorhanden zur Aufteilung des in den ersten Lichtleitfasern (2a) geführten Lichts in die weiteren Lichtleitfasern (2b, 2c), wobei die eine Lichtleitfaser (2c) mit der Eingangsblende einer Particle-Flux-Anordnung (7) und die anderen Lichtleitfasern (2b) mit der Eingangsblende eines Spektrometers (3) verbunden sind und wobei Mittel (5, 7) zur Ermittlung des momentanen Zustandes des Spritzprozesses vorhanden sind.
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