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发明名称 REINIGUNGSFLÜSSIGKEIT UND REINIGUNGSVERFAHREN FÜR HALBLEITERBEARBEITUNGSMASCHINENKOMPONENTE
摘要
申请公布号 DE69933025(D1) 申请公布日期 2006.10.12
申请号 DE1999633025 申请日期 1999.05.25
申请人 TOKYO ELECTRON LTD. 发明人 HIROTA, KENICHI;YAMADA, HITOSHI;YUASA, KIYOSHI;YAMAGUCHI, EIJI;KAWAGUCHI, SHINICHI;SHIMODA;NAGAYAMA, NOBUYUKI
分类号 C11D3/44;C11D3/20;C11D3/28;C11D11/00;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/3065 主分类号 C11D3/44
代理机构 代理人
主权项
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