发明名称 Kollektorspiegel für plasmabasierte kurzwellige Strahlungsquellen
摘要 Die Erfindung betrifft einen Kollektorspiegel für kurzwellige Strahlungsquellen auf Basis eines Plasmas. DOLLAR A Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zum Temperieren eines Kollektorspiegels (1; 5) für die Fokussierung von aus einem Plasma (2) erzeugter kurzwelliger Strahlung zu finden, die die Herstellung einer leistungsfähigen thermischen Verbindung der optisch aktiven Spiegeloberfläche (12) mit einem Thermostatsystem ohne Nachteile bei Raumbedarf oder hochpräziser Fertigung des Kollektorspiegels (1; 5) gestattet, wird erfindungsgemäß gelöst, indem der Kollektorspiegel (1; 5) ein massives rotationssymmetrisches Substrat (11; 51) aufweist, das aus einem Material hoher thermischer Leitfähigkeit von mehr als 50 W/m K besteht und in das direkt Kanäle (13; 53) zur Kühlung und Temperierung eingearbeitet sind, die zur unmittelbaren Durchströmung mit einem Wärmetransportmedium (4) und zum schnellen definierten Temperieren der optisch aktiven Spiegeloberfläche (12) vorgesehen sind, wobei Wärme von transienten Temperaturspitzen, die im gepulsten Regime der Plasmaerzeugung an der Spiegeloberfläche (12) auftreten und kurzzeitig den Temperaturmittelwert um ein Vielfaches überschreiten, schneller abgeleitet wird.
申请公布号 DE102005017262(B3) 申请公布日期 2006.10.12
申请号 DE200510017262 申请日期 2005.04.12
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 BALOGH, ISTVAN;GAEBEL, KAI
分类号 H05G2/00;G21K1/06 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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