| 主权项 |
1.一种三相分离装置,适用于一反应槽,对含有固气 液三相之废水做分离,包括: 一第一多孔板,设置于该反应槽,包括: 一第一主体,具有复数个第一孔洞; 复数个第一阻气管,与该等第一孔洞连接,并位于 该第一主体之下方;以及 复数个第一隔板,与该等第一阻气管对应,并水平 设置于该等第一阻气管之下方,且该等第一隔板与 该等第一阻气管间具有一间隙; 其中该等第一阻气管投影至该等第一隔板之投影 范围不超过该等第一隔板之边界。 2.如申请专利范围第1项所述之三相分离装置,其中 该第一多孔板以上为一固液分离区,该第一多孔板 与该等第一隔板间为一集气区,该等第一隔板以下 为一反应区。 3.如申请专利范围第2项所述之三相分离装置,更包 括一倾斜板,设置于该固液分离区。 4.如申请专利范围第3项所述之三相分离装置,更包 括一溢流堰,设置于该固液分离区,并位于该倾斜 板之上方。 5.如申请专利范围第2项所述之三相分离装置,更包 括一集气与浮渣缓冲桶,与该集气区连通。 6.如申请专利范围第2项所述之三相分离装置,更包 括一第一导管,与该集气区连通。 7.如申请专利范围第2项所述之三相分离装置,更包 括一第二导管,与该固液分离区连通。 8.如申请专利范围第7项所述之三相分离装置,更包 括一分配槽,其中该第二导管连通该分配槽与该固 液分离区。 9.如申请专利范围第8项所述之三相分离装置,更包 括一泵,设置于该第二导管。 10.如申请专利范围第7项所述之三相分离装置,更 包括一第三导管,连通该分配槽与该反应区。 11.如申请专利范围第1项所述之三相分离装置,更 包括: 一第二多孔板,设置于该反应槽,包括: 一第二主体,具有复数个第二孔洞与一第三孔洞; 复数个第二阻气管,与该等第二孔洞连接,并位于 该第二主体之下方; 一集气管,与该第三孔洞连接,并位于该第二主体 之上方;以及 复数个第二隔板,与该等第二阻气管对应,并水平 设置于该等第二阻气管之下方,且该等第二隔板与 该等第二阻气管间具有一间隙; 其中该等第二阻气管投影至该等第二隔板之投影 范围不超过该等第二隔板之边界。 12.如申请专利范围第11项所述之三相分离装置,其 中该第一多孔板以上为一固液分离区,该第一多孔 板与该等第一隔板间为一第一集气区,该等第一隔 板与该第二多孔板间为一第一反应区,该第二多孔 板与该等第二隔板间为一第二集气区,该等第二隔 板以下为一第二反应区。 13.如申请专利范围第12项所述之三相分离装置,更 包括一倾斜板,设置于该固液分离区。 14.如申请专利范围第13项所述之三相分离装置,更 包括一溢流堰,设置于该固液分离区,并位于该倾 斜板之上方。 15.如申请专利范围第12项所述之三相分离装置,更 包括一集气与浮渣缓冲桶,与该第一集气区连通。 16.如申请专利范围第12项所述之三相分离装置,更 包括一第一导管,与该第一集气区连通。 17.如申请专利范围第12项所述之三相分离装置,更 包括一第二导管,与该固液分离区连通。 18.如申请专利范围第17项所述之三相分离装置,更 包括一分配槽,其中该第二导管连通该分配槽与该 固液分离区。 19.如申请专利范围第18项所述之三相分离装置,更 包括一泵,设置于该第二导管。 20.如申请专利范围第17项所述之三相分离装置,更 包括一第三导管,连通该分配槽与该第一及该第二 反应区。 21.如申请专利范围第12项所述之三相分离装置,其 中该集气管连通该第一集气区与该第二集气区。 22.如申请专利范围第11项所述之三相分离装置,其 中该反应槽之高度系介于15公尺至25公尺。 图式简单说明: 第1图显示习知之三相分离装置与厌氧处理槽之示 意图; 第2A图显示本发明之三相分离装置与反应槽之示 意图; 第2B图显示第2A图中第一阻气管与第一隔板之放大 图; 第3图为第一多孔板之立体图; 第4图为第二多孔板之立体图;以及 第5图显示本发明之三相分离装置与反应槽之一变 化例之示意图。 |
