光刻胶聚合物组合物

摘要

本发明涉及通过活性自由基聚合方法制备光刻胶聚合物。使用位阻大的酯单体作为聚合组分。聚合加工条件包括使用链转移剂。描述了包含杂原子的聚合物端基的解离。

主权项

1.一种光刻胶组合物，包含光致产酸剂和包含下式的聚合物树脂：                      [A]x[B]y[C]z式中，A、B和C各自独立地是以下结构式之一：或其中，x约为0-200，包括端点，y约为1-200，包括端点，z约为1-200，包括端点，条件是B≠C；所述聚合物通过在具有以下结构式的链转移剂(CTA)存在下的活性自由基方法(LFRP)制备，式中，R¹是在加成一裂解反应中能以自由基形式除去的任何基团；R²和R³各自独立地选自：氢、烃基、取代的烃基、含杂原子烃基和取代的含杂原子烃基，以及它们的组合，R²和R³任选地一起形成双键任选取代的烯基部分；R⁴选自：氢、烃基、取代的烃基、含杂原子烃基和取代的含杂原子烃基，以及它们的组合；任选地，R⁴与R²和/或R³组合形成环结构，所述环有3-50个非氢原子；D是硫、硒或碲。