| 发明名称 | 涂有电介质层的基材、其制造方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明施加一种基材(1)，特别是玻璃的该基材，通过阴极雾化，特别是磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的活性的阴极雾化，在曝露在至少一种来源于离子源(4)的离子束的条件下，在其上面涂有至少一层电介质薄层，其特征在于，曝露在离子束下的所述电介质层具有能够根据离子源参数调节的折光指数，所述离子源是一个线性源。 | ||
| 申请公布号 | CN1845882A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200480024717.4 | 申请日期 | 2004.06.28 |
| 申请人 | 法国圣戈班玻璃厂 | 发明人 | C·博贝;K·菲舍尔;M·勒尔根;J·－C·吉龙;N·纳多;E·马特曼;J·－P·鲁索;A·霍夫里希特;M·扬森 |
| 分类号 | C03C17/22(2006.01);C03C17/245(2006.01);C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C03C17/22(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘维升;段晓玲 |
| 主权项 | 1.基材(1)，特别是玻璃的基材，通过阴极雾化，特别是磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的活性的阴极雾化，在曝露在至少一种来源于离子源(4)的离子束(3)的条件下，在基材上面涂有至少一层电介质薄层，其特征在于，曝露在离子束下的所述电介质层具有能够根据离子源参数调节的折光指数，所述离子源是线性源。 | ||
| 地址 | 法国库伯瓦 | ||