| 发明名称 | 纳米印刷模具、其制造方法及纳米印刷装置和方法 | ||
| 摘要 | 在纳米印刷法中，提供一种离模性和转印精度优良的模具。通过控制离模材料和形成于模具表面的金属氧化膜的厚度，从而调整形成于其外层的离模材料层的粘接量，形成离模性优良的模具。本发明还涉及纳米印刷模具的制造方法和使用该模具的纳米印刷装置及纳米印刷方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1843768A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200610008659.7 | 申请日期 | 2006.02.20 |
| 申请人 | 株式会社日立产机系统 | 发明人 | 大桥健也;宮内昭浩;荻野雅彦 |
| 分类号 | B41N1/00(2006.01);B41N1/24(2006.01);B41N3/03(2006.01);B41M5/26(2006.01);B41C1/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | B41N1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1.一种纳米印刷模具，其特征在于：在模具的印刷侧表面具有厚1～3nm的含Ni氧化物膜，其中至少该模具的印刷侧表面由Ni或Ni合金构成。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||