发明名称 铟系金属微粒的制造方法
摘要 本发明提供能用于形成防带电性和电磁屏蔽性优良,且制造可靠性和成本也非常理想的透明导电性覆膜的铟系金属微粒及其分散溶胶。该铟系金属微粒的特征是,平均粒径在2~200nm的范围内。上述铟系金属微粒可以只含有铟金属,也可以含有铟金属和选自Sb、Sn、Ag、Au、Zn、Cu、Bi、Cd的1种以上的金属成分。上述铟系金属微粒分散到水及/或有机溶剂而形成铟系金属微粒分散溶胶。该铟系金属微粒的制造方法的特征是,在含铟化合物及酮化合物、且溶剂中的醇含量在40重量%以上的混合醇溶液中加入还原剂。
申请公布号 CN1278805C 申请公布日期 2006.10.11
申请号 CN03136718.6 申请日期 2003.05.20
申请人 触媒化成工业株式会社 发明人 俵迫祐二;金南宪;平井俊晴
分类号 B22F9/24(2006.01);C03C17/06(2006.01) 主分类号 B22F9/24(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 胡烨
主权项 1.铟金属微粒的制造方法,其特征在于,在醇含量在40重量%以上、水含量在30重量%以下的溶剂中加入铟化合物、酮化合物和还原剂,使铟化合物还原。
地址 日本神奈川县