| 发明名称 | 对玻璃基体进行镀层的方法和磁记录介质的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够通过除去由玻璃材料制成的基体的表面的碱金属和碱土类金属、从而形成密合性优异的无电解镀膜的对玻璃基体进行镀层的方法和一种使用该镀层方法的磁记录介质的制造方法。在由玻璃材料制成的基体表面上，依次至少实施紫外线照射处理(S1)、蚀刻处理(S2)、密合层形成处理(S3)、催化剂层形成处理(S4)、和催化剂活化处理(S5)后，实施无电解镀层(S6)。 | ||
| 申请公布号 | CN1843996A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200610072581.5 | 申请日期 | 2006.04.07 |
| 申请人 | 富士电机电子设备技术株式会社 | 发明人 | 矶亚纪良;郑用一;栗原大 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01);C03C17/00(2006.01) | 主分类号 | C03C15/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种对玻璃基体进行镀层的方法，其特征在于：在由玻璃材料制成的基体的表面上，依次至少实施紫外线照射处理、蚀刻处理、密合层形成处理、催化剂层形成处理、和催化剂活化处理后，实施无电解镀层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||