| 发明名称 | 光学记录介质及其制造方法、以及用于光学记录介质的数据记录方法和数据读取方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明的一种光学记录介质(10)，包括：其上形成有凹槽(11a)的支撑基板(11)、透光层(12)，在支撑基板(11)与透光层(12)之间设置的贵金属氧化物层(23)，其中，凹槽(11a)的深度设定为大于λ/8n但小于等于60nm，此处，n是透光层(12)对波长为λ的光的折射率。因此，通过将激光束照射在贵金属氧化物层(23)上，在进行超分辨率记录和超分辨率读取时，可获得良好的信号特性，尤其是有足够幅值的推挽信号。此外，因为凹槽的深度设定为60nm或更小，在生产用于制造基板的模片时不会出现较大的困难。 | ||
| 申请公布号 | CN1846254A | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN200480025272.1 | 申请日期 | 2004.09.01 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 菊川隆;福泽成敏;小林龙弘 |
| 分类号 | G11B7/004(2006.01);G11B7/24(2006.01);G11B7/26(2006.01) | 主分类号 | G11B7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 宋丹氢;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种光学记录介质，包括：其上形成有凹槽的基板；设置在所述基板上的贵金属氧化物层；第一电介质层，当从所述贵金属氧化物层观看，该第一电介质层设置在光入射平面侧；以及第二电介质层，当从所述贵金属氧化物层观看，该第二电介质层设置在所述光入射平面的相对侧；其中，通过将波长为λ的激光束沿着所述凹槽照射在所述贵金属氧化物层上，所述光学记录介质能记录数据，以及所述凹槽的深度设定为大于λ/8n但小于等于60nm，此处，n是所述激光束的光路对波长为λ的光的折射率。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||