用于在等离子体处理装置中平衡返回电流的方法

摘要

本发明揭示一种等离子体处理反应器(200)，其包括一腔(202)及一衬底支撑件(216)。所述腔包括一贯穿所述腔的一侧壁的开口。所述衬底支撑件以可移开方式安装于所述腔内。所述腔的开口大到足以使所述衬底支撑件能够通过所述开口从所述腔中移除。所述腔内的内侧壁及所述衬底支撑件的一表面的一部分具有一涂层(228)。所述涂层由一电阻材料制成。所述涂层沿所述内侧壁的所述表面的所述部分形成一阻抗，所述内侧壁的所述表面的所述部分原本将比所述腔的对置面载送一更大部分的RF返回电流。所述涂层还沿所述衬底支撑件形成一阻抗，以使沿所述腔的所述内壁的所述表面的RF返回电流的密度明显地更加均匀。

主权项

1、一种等离子体处理反应器，其包括：一腔，其具有一可移开式衬底支撑件，所述可移开式衬底支撑件并不以所述腔的一竖直轴为中心轴对称；一RF电源，其耦接至所述腔，所述RF电源适合于为所述腔的内部提供RF功率且由此在其中形成一等离子体；由一薄膜形成的一涂层，其在一处理前有选择地应用至所述腔的一内侧壁的一表面的一部分，所述涂层包括一电阻材料，所述电阻材料具有一明显不同于所述腔的一下层基底材料的RF阻抗。