衬底处理装置和衬底处理方法

摘要

利用一边由移动机构从溶剂喷嘴排出冲淡剂，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除衬底的仅周边部的光刻胶膜，使在进行粘附处理时形成的HMDS气体的处理膜露出。其次，利用一边由光纤辐照紫外线，一边沿衬底的各边移动例如2个来回或3个来回，去除仅在衬底的周边部露出的处理膜。这样，因为不从衬底周边部上露出的处理膜产生胺系气体，所以能防止使曝光装置中的曝光透镜和反射镜及其他的机器类产生白色污浊。

主权项

1.一种衬底周边膜去除装置，其特征在于，包括：向形成了疏水化处理膜和涂覆在该疏水化处理膜上的光刻胶涂覆膜的衬底的衬底周边部排出冲淡剂，去除该周边部的光刻胶涂覆膜的光刻胶涂覆膜去除装置；疏水化处理膜去除装置，在去除上述光刻胶涂覆膜之后，该装置从光源向上述衬底周边部露出的上述疏水化处理膜辐照包含用于曝光上述光刻胶涂覆膜的曝光光的波长范围的光来除去上述疏水化处理膜。