发明名称 |
对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备及制造玻璃基片的方法 |
摘要 |
提供一种对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备及制备用于磁记录介质的玻璃基片的方法,对要用作硬盘的基片的玻璃基片,不需要额外操作就能提高质量和产率。在用玻璃基片2制造硬盘的过程中,对玻璃基片外边缘表面要求算术平均粗糙度(Ra)最多为100nm,以这样的粗糙度,可以用磨石进行高产率的抛光。此外,因为可以进行这样的进行抛光,通过采用片处理,可提高产率。通过试样树脂构成的磨石4可以稳定加工边界,可以使单独玻璃基片的尺寸精度变化最小。树脂构成的磨石4是具有槽4A的成形磨石,形成的槽4A能同时抛光玻璃基片2的外边缘表面2A以及在该玻璃基片两面上的倒角2B和2C。提高试样如树脂磨石4这样的成形磨石,能够同时抛光玻璃基片2的外边缘表面2A及该玻璃基片的两面上的倒角2B和2C,因而进一步提高了产率和质量。 |
申请公布号 |
CN1843694A |
申请公布日期 |
2006.10.11 |
申请号 |
CN200610073718.9 |
申请日期 |
2006.04.06 |
申请人 |
旭硝子株式会社 |
发明人 |
千田昌平;金子正己;駒木根光彦 |
分类号 |
B24B9/08(2006.01);B24D3/28(2006.01) |
主分类号 |
B24B9/08(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
周承泽 |
主权项 |
1.一种对用于磁记录介质的玻璃基片的边缘表面进行抛光的设备,其特征在于,通过将用于磁记录介质的玻璃基片的外边缘表面和/或内边缘表面压向由树脂制成的磨石,来对所述外边缘表面和/或所述内边缘表面进行抛光,使得所述外边缘表面和/或所述内边缘表面的算术平均粗糙度(Ra)最多为100nm,其中,所述磨石通过将磨粒混入树脂中制成。 |
地址 |
日本东京 |