| 发明名称 | 化学放大刻蚀剂材料和使用它的图案化方法 | ||
| 摘要 | 一种包含基础树脂和在图案化曝光波长上具有敏感性的光酸生成剂的化学放大刻蚀剂材料；其中，所述化学放大刻蚀剂材料进一步包含通过图案化曝光之外的处理而产生酸或自由基的活化剂。还公开了一种使用它的图案化方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1279405C | 申请公布日期 | 2006.10.11 |
| 申请号 | CN03147412.8 | 申请日期 | 2003.07.09 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 今纯一;野崎耕司;矢野映 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1.包含树脂和在图案化曝光波长上具有敏感性的光酸生成剂的化学放大刻蚀剂材料；其中，所述化学放大刻蚀剂材料进一步包含通过图案化曝光之外的处理而产生酸或自由基的活化剂，其中活化剂因为热分解而产生酸或自由基，且其中通过分解活化剂而产生的酸或自由基的分子数不超过通过分解光酸生成剂而产生的分子或酸的数目的1/5。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||