| 发明名称 | 用于光刻应用的专用测量台 | ||
| 摘要 | 用于检测关于曝光部分或曝光束的参数的系统和方法。该系统包括衬底台和测量台。设置该衬底台以定位衬底以接收来自光刻系统曝光部分的曝光束。测量台具有设置成检测曝光系统或曝光束的参数的传感器系统。在一个示例中，该系统位于光刻系统内，其进一步包括照明系统、构图装置和投影系统。该构图装置构图来自照明系统的辐射束。位于曝光部分内的该投影系统将该构图束投影到衬底或传感器系统。 | ||
| 申请公布号 | CN1841207A | 申请公布日期 | 2006.10.04 |
| 申请号 | CN200610071179.5 | 申请日期 | 2006.03.02 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·A·范德科克霍夫;H·P·C·沃斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘红;张志醒 |
| 主权项 | 1、一种系统，包括：衬底台，设置所述衬底台用于定位衬底以接收来自光刻系统的曝光部分的曝光束；和其上具有传感器系统的测量台，设置所述传感器系统以检测曝光系统或曝光束的参数，其中所述传感器系统包括散射光传感器、缝隙均匀传感器、相对偏振传感器、变迹传感器、绝对偏振传感器、图像质量传感器或波前像差传感器。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||