| 发明名称 | 等离子体显示屏 | ||
| 摘要 | 提供一种等离子体显示屏，通过使用碱土类金属氧化物中的具有使VUV难以透过的性质的氧化物作为保护膜，阻止放电时产生的VUV透过电介质层，防止来自电介质层中的杂质气体的产生，由此防止封入屏中的放电气体的污染。该等离子体显示屏包括：隔着放电空间对置配置的一对基板、覆盖在一对基板中的至少一个基板上形成的多个电极而在基板上形成的电介质层、覆盖该电介质层而在基板上形成的保护膜、以及封入放电空间的包含氙的放电气体构成；且电介质层由包含氧化硅的材料形成；保护膜由具有使电极间放电中产生的紫外线难以透过的性质的材料形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1841630A | 申请公布日期 | 2006.10.04 |
| 申请号 | CN200610067805.3 | 申请日期 | 2006.03.13 |
| 申请人 | 富士通日立等离子显示器股份有限公司 | 发明人 | 须川幸次;岩濑信博;川北哲郎 |
| 分类号 | H01J17/49(2006.01);H01J17/02(2006.01);H01J17/04(2006.01);H01J17/20(2006.01);H01J11/02(2006.01) | 主分类号 | H01J17/49(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 岳耀锋 |
| 主权项 | 1.一种等离子体显示屏，包括：隔着放电空间对置配置的一对基板、覆盖在一对基板中的至少一个基板上形成的多个电极而在基板上形成的电介质层、覆盖该电介质层而在基板上形成的保护膜、以及封入放电空间的包含氙的放电气体；且电介质层由包含氧化硅的材料形成；保护膜由具有使电极间放电时产生的紫外线难以透过的性质的材料形成。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||