双包层掺稀土光纤及其制造方法

摘要

本发明涉及一种双包层掺稀土光纤及其制造方法，本发明的光纤由掺稀土纤芯、内包层、外包层和保护层构成的。双包层掺稀土光纤的制造方法包括采用管内沉积法在圆管形的石英衬管内壁上沉积掺杂的二氧化硅层，形成内包层；沉积形成掺稀土的芯层；沉积完成后，在缩棒设备上将沉积管熔缩为实心预制棒，反应所需的稀土化合物及其它共掺杂剂蒸气采用专用气柜和高温流量计进行蒸发和控制；将预制棒机械加工成预定的几何形状；然后进行拉丝、涂覆外包层和保护层，固化外包层和保护层得到双包层掺稀土光纤，本发明的掺稀土双包层光纤改善了泵浦光的吸收效率，改善了光纤激光器的增益。

主权项

1.一种双包层掺稀土光纤，包括：掺稀土纤芯；覆盖在所述掺稀土纤芯外围的内包层，具有预定的几何形状，其尺寸和数值孔径比所述纤芯大得多；覆盖在所述内包层上的外包层；覆盖在所述外包层上的保护层；其特征在于：所述掺稀土纤芯的材料为掺有稀土元素化合物及共掺杂剂的二氧化硅；所述内包层的材料是掺有掺杂剂的二氧化硅；所述外包层的材料为折射率比内包层低的有机化合物；所述保护层的材料为不同于外包层的有机化合物；所述掺稀土纤芯的直径d1范围为10μm≤d1≤200μm，所述掺稀土纤芯的折射率n1范围为1.457＜n1≤1.467；所述内包层的直径d2范围为125μm≤d2≤600μm，所述内包层的折射率n2范围为1.456≤n2≤1.457：所述外包层的直径d3范围为250μm≤d3≤700μm，所述外包层的折射率n3范围为1.342≤n3≤1.448；所述保护层的直径d4范围为350μm≤d4≤800μm；所述掺稀土纤芯中掺杂的稀土元素化合物为铒、镱、铥和镧的卤化物或氧化物一种或多种，掺杂浓度为500-20000ppm；共掺杂剂为锗、铝和磷的化合物的一种或多种，掺杂重量百分比为2-40wt％；所述内包层中的掺杂剂是SF6或C2F6，以降低折射率。