| 发明名称 |
Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1148105(B1) |
申请公布日期 |
2006.10.04 |
| 申请号 |
EP20010109076 |
申请日期 |
2001.04.11 |
| 申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
HAYASHI, EIJI;NISHIKAWA, MICHINORI;YAMADA, KINJI |
| 分类号 |
C09D183/04;C08G77/06;C08G77/08;C08G77/34;C08G77/50;C08K3/00;C08K5/09;C09D183/14;H01B3/46;H01L21/312;H01L21/316 |
主分类号 |
C09D183/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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