制作插塞之方法

摘要

本发明系提供一种制作插塞之方法。首先提供一基底，且基底上包含有至少一介电层，再于介电层上形成一图案化硬遮罩。之后利用图案化硬遮罩当作遮罩蚀刻介电层，以形成至少一插塞洞，再于基底上形成一阻障层与一导电层，且导电层填满插塞洞。随后，依序进行一第一、第二以及第三化学机械研磨制程，以分别去除部份之导电层、部份之阻障层以及图案化硬遮罩。最后，进行一第四化学机械研磨制程，以去除部份之介电层。