光阻剥除剂成份

摘要

(问题)提供一种光阻剥除剂成份，其具有卓越能力可阻止铜线路或低介电膜受到腐蚀或损伤，且在灰化后具有卓越的光阻残留物可去除性。(解答)本发明提供一种光阻剥除剂成份，特点在于含有至少二种不同无机酸盐类、界面活性剂及一种金属腐蚀抑制剂，且pH在3–10之间；及制作半导体装置的一种程序，特点在于使用该光阻剥除剂来清除在制作以铜或铜合金作为线路材料的半导体装置期间所产生的光阻残留物。