图案曝光方法及装置

摘要

本发明提供一种能藉由高指向性照明光以良好效率进行无光罩曝光的无光罩曝光方法及无光罩曝光装置，且能提升阻焊剂曝光效率的无光罩曝光方法及无光罩曝光装置。设置射出波长为405nm之雷射光1a的蓝紫半导体雷射12A、与射出波长为375nm之雷射光1b的紫外线半导体雷射12B，使雷射光1a,1b之光轴成同轴，照射于基板8上。此时，系以雷射光1a,1b对基板8上之同一处照射复数次，来使雷射光1a,1b之强度分布平均化。