发明名称 光罩、倍缩光罩以及其形成方法
摘要 一种形成光罩之方法,用以改善光罩之静电放电防护能力,其包括:提供一具有上表面之基底,该基底对一既定辐射具有穿透性;于该基底上形成一光感应层;图案化与蚀刻光感应层以形成一位于该光感应层之开口图案;依据位于该光感应层之开口图案,蚀刻该基底;剥除该光感应层;然后 积一不透光层于该图案化基底之上表面与该开口图案中;从该基底之上表面移除多余之不透光层以平坦化该基底;于该基底之上表面黏合一薄膜。
申请公布号 TW200634441 申请公布日期 2006.10.01
申请号 TW095102450 申请日期 2006.01.23
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 郭士祯;罗育伦
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号