| 主权项 |
1.一种基材涂层,其包括一直接在基材(2)上之透明Si3N4或SiNx层(3),一在Si3N4或SiNx层(3)上之半金属层(4),进一步之Si3N4或SiNx层(6),及得自Al2O3、SnO、TiO2与SiO2之介电氧化物层(5),其特征在于:介电氧化物层(5)系配置于半金属层(4)上,且进一步之Si3N4层(6)系在介电氧化物层(5)上。2.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中半金属层为CrN层。3.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中于该直接在基材(2)上之透明Si3N4或SiNx层(3)与该半金属层(4)之间设有介电氧化物层(10)。4.如申请专利范围第1或3项之基材涂层,其中在低于化学计量的SiNx层中,x为小于4/3之数。5.如申请专利范围第2项之基材涂层,其中设有半金属NiCrN或NiCrOx层以代替半金属CrN层(4)。6.如申请专利范围第1或3项之基材涂层,其中透明Si3N4或低于化学计量的SiNx层(3,6)系各具有20至120奈米之层厚度。7.如申请专利范围第1或3项之基材涂层,其中介电氧化物层(5,10)各具有4至120奈米之层厚度。8.如申请专利范围第1或5项之基材涂层,其中半金属NiCrN、CrN(4)或NiCrOx层具有5至40奈米之层厚度。9.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中基材(2)为玻璃。10.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中基材(2)为合成材料。11.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中设有由Cr、Ni或NiCr所构成之额外层。12.如申请专利范围第1项之基材涂层,其中介电氧化物层系由Nb2O5所构成。图式简单说明:第1图系一包括四层之玻璃涂层,第2图系一包括五层之玻璃涂层,第3图系一包括五层之玻璃涂层。 |
