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发明名称
去氧触媒及使用该触媒去除氧之方法
摘要
本发明提供一种在还原物质存在下及在低温度范围至较高温度范围,能够以高效率且安定地去除、分解气体中之氧之触媒;其特征为由当作触媒成分A之由Ti(钛)、Si(矽)、W(钨)、MO(钼)、Zr(锆)及Fe(铁)构成群组中选择之至少1种金属氧化物,与当作触媒成分B之由Pt(铂)、Pd(钯)、Rh(铑)、Ir(铱)、Ru(钌)、Ni(镍)及Co(钴)构成群组中选择之至少1种金属及/或金属氧化物所构成;并如气体中存在还原物质时该触媒能够有效去除其中之氧。
申请公布号
TW200633774
申请公布日期
2006.10.01
申请号
TW095109310
申请日期
2006.03.17
申请人
触媒股份有限公司
发明人
池田光明;吉野和德;池之上敏胜;森田敦
分类号
B01J21/06;B01J23/40;B01J23/74;B01J23/89;B01D53/34
主分类号
B01J21/06
代理机构
代理人
郑再钦
主权项
地址
日本
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