发明名称 去氧触媒及使用该触媒去除氧之方法
摘要 本发明提供一种在还原物质存在下及在低温度范围至较高温度范围,能够以高效率且安定地去除、分解气体中之氧之触媒;其特征为由当作触媒成分A之由Ti(钛)、Si(矽)、W(钨)、MO(钼)、Zr(锆)及Fe(铁)构成群组中选择之至少1种金属氧化物,与当作触媒成分B之由Pt(铂)、Pd(钯)、Rh(铑)、Ir(铱)、Ru(钌)、Ni(镍)及Co(钴)构成群组中选择之至少1种金属及/或金属氧化物所构成;并如气体中存在还原物质时该触媒能够有效去除其中之氧。
申请公布号 TW200633774 申请公布日期 2006.10.01
申请号 TW095109310 申请日期 2006.03.17
申请人 触媒股份有限公司 发明人 池田光明;吉野和德;池之上敏胜;森田敦
分类号 B01J21/06;B01J23/40;B01J23/74;B01J23/89;B01D53/34 主分类号 B01J21/06
代理机构 代理人 郑再钦
主权项
地址 日本