| 主权项 |
1.一种溅射系统,其包含: 一靶标背衬管,其具有一外部表面; 一背衬层,其与该靶标背衬管之外部表面接触,该 背衬层系导电及不导热的;及 复数靶标圆柱体,其坐落环绕着该靶标背衬管及与 该背衬层接触。 2.如申请专利范围第1项之溅射系统,其中该靶标背 衬管包含第一塞子及第二塞子。 3.如申请专利范围第2项之溅射系统,其中该复数靶 标圆柱体系定位成使得一间隙存在于该复数靶标 圆柱体之一及该第一塞子之间。 4.如申请专利范围第1项之溅射系统,其中该复数靶 标圆柱体之至少二个包含可压缩在一起之平坦边 缘。 5.如申请专利范围第1项之溅射系统,其中该背衬层 包含一网格布。 6.如申请专利范围第5项之溅射系统,其中该背衬层 包含一石墨网格布。 7.如申请专利范围第1项之溅射系统,其中该背衬层 系附接至该复数靶标圆柱体之至少一个。 8.如申请专利范围第7项之溅射系统,其中该背衬层 系以化学方式附接至该复数靶标圆柱体之至少一 个。 9.如申请专利范围第1项之溅射系统,其中该复数靶 标圆柱体之每一个系由相同之材料所形成。 10.一种溅射系统,其包含: 复数靶标圆柱体,其具有一外部表面及一内部表面 ;及 一网格布,其附接至该复数靶标圆柱体之至少一些 圆柱体的内部表面,该网格布层系导电及不导热的 。 11.如申请专利范围第10项之溅射系统,其中该网格 布包含: 复数分开之网格布部份。 12.如申请专利范围第10项之溅射系统,其中该网格 布包含石墨。 13.如申请专利范围第10项之溅射系统,其中该复数 靶标圆柱体系由一至少局部氧化之合金所形成。 14.如申请专利范围第10项之溅射系统,其中该复数 靶标圆柱体系由氧化铟锡(ITO)所形成。 15.一种溅射系统,其包含: 一靶标背衬管,其具有一外部表面; 一分隔器,其与该靶标背衬管之外部表面接触;及 复数靶标圆柱体,其坐落环绕着该靶标背衬管及与 该分隔器接触。 16.如申请专利范围第15项之溅射系统,其中该分隔 器包含一金属线分隔器。 17.如申请专利范围第15项之溅射系统,其中该复数 靶标圆柱体之至少一些圆柱体包含: 一舌片及沟槽连接系统。 18.如申请专利范围第15项之溅射系统,尚包含一连 接至该靶标背衬管之塞子。 19.如申请专利范围第18项之溅射系统,其中该塞子 包含: 一张力弹簧,其架构成可啮合该塞子及该复数靶标 圆柱体之至少一个。 20.一种可旋转磁控管系统,其包含: 一靶标背衬管,其具有一外部表面; 一背衬层,其与该靶标背衬管之外部表面接触,该 背衬层系导电及不导热的; 复数靶标圆柱体,其坐落环绕着该靶标背衬管及与 该背衬层接触; 一驱动器系统,其用于转动该靶标背衬管; 一磁铁系统,其坐落于该靶标背衬管内侧,该磁铁 系统架构成可维持一增强之溅射电浆;及 一冷却系统,其用于冷却该靶标背衬管及该磁铁系 统。 21.如申请专利范围第20项之系统,尚包含一连接至 该靶标背衬管之塞子。 22.如申请专利范围第21项之系统,其中该复数靶标 圆柱体系定位成使得一间隙存在于该复数靶标圆 柱体之一及该第一塞子之间。 23.如申请专利范围第22项之系统,其中该塞子包含: 一张力弹簧,其架构成可啮合该塞子及该复数靶标 圆柱体之至少一个。 24.如申请专利范围第20项之系统,其中该复数靶标 圆柱体之至少一些圆柱体包含: 一舌片及沟槽连接系统。 25.如申请专利范围第20项之系统,其中该背衬层系 附接至该复数靶标圆柱体之至少一个。 26.一种可旋转磁控管系统,其包含: 一靶标背衬管,其具有一外部表面; 一背衬层,其与该靶标背衬管之外部表面接触,该 背衬层系导电及不导热的; 复数靶标圆柱体,其坐落环绕着该靶标背衬管及与 该背衬层接触; 一驱动器系统,其用于转动该靶标背衬管; 一磁铁系统,其坐落于该靶标背衬管内侧,该磁铁 系统架构成可维持一增强之溅射电浆;及 一冷却系统,其用于冷却该靶标背衬管及该磁铁系 统。 图式简单说明: 图1系一先前技艺、悬臂式、旋转式磁控管系统之 图示; 图2系一先前技艺、双重支撑式、旋转式磁控管系 统之图示; 图3系一先前技艺、旋转式磁控管系统之方块图; 图4系根据本发明之一项实施所建构之靶标方块图 ;及 图5系一靶标总成之横截面图; 图6系另一靶标总成之横截面图;及 图7系又另一靶标总成之横截面图。 |
