| 摘要 |
Derivati karboksilne kiseline formule (I) koji sunaznačeni time da R predstavlja tetrazolil ili COOH grupu, a drugi supstituenti imaju značenja kako slijedi: R2 je C1-C4-alkil, C1-C4-alkoksiX jedušik ili CR14, gdjeR14 je vodik ili alkil, ili CR14 formira zajedno sa CR3 4- ili 5-članski alkilenski ili alkenilenski prsten kao što se spominje uprimjeru -CH2-CH2-CH2-, -CH=CH-CH2-, u kojem u svakom slučaju metilenska grupa može biti zamijenjena kisikom ili sumporom kao npr. -CH2-CH2-O-, -CH=CH-O-, -CH2-CH2-CH2-O-, -CH=CH-CH2O-, a posebice vodikom -CH2-CH2-O-, -CH(CH3)-CH(CH3)-O-, -C(CH3)=C(CH3)-O-, -CH=C(CH3)-O- ili -C(CH3)=C(CH3)-S; R3 je kao što je navedeno za R2 C1-C4-alkil, C1-C4-alkoksi ili C1-C4-alkiltio ili je pak vezan na R14 kao što je nevedeno naprijed, kada se dobije 5- ili 6-članski prsten; R4 i R5 su fenil (jednak ili različit), koji može biti supstituiran sa jednim iliviše slijedećih radikala: halogen, dušik, hidroksil, C1-C4-alkil, C1-C4-alkoksi, C1-C4-alkiltio iliR4 i R5 su fenilne grupe koje su povezane zajednou orto pozicijama preko direktne veze, preko metilena, etilena ili etenilenske grupe, atoma kisika ili sumpora, preko SO2-; NH- ili N-alkilne grupe; R6 je C1-C8-alkil, C3-C6-alkenil ili C3-C8-cikloalkil, s tim da svaki od rečenih radikala može bitisupstituiran jednom ili više puta sa: halogen, hidroksil, nitro, cijano, C1-C4-alkoksi, C3-C6-alkeniloksi, C1-C4-alkiltio; fenil ili naftil, s tima da svaki od njih može biti supstituiran s jednim ili više slijedećih radikala: halogen, nitro, cijano, hidroksil, amino, C1-C4-alkil, C1-C4-haloalkil, C1-C4-alkoksi, C1-C4-haloalkoksi, fenoksi, C1-C4-alkiltio, C1-C4-alkilamino ili C1-C4-dialkilamino; 5- ili 6-članska heteroaromatska jedinica koja sadržava jedan atom dušika i/ili jedan atom sumpora ili kisika, koji može nositi jedan do četiri atoma halogena i/ili jedan do dva slijedeća radikala: C1-C4-alkil, C1-C4-haloalkil, C1-C4-alkoksi, C1-C4-alkiltio, fenil, fenoksi ili fenilkarbonil, s time da je moguće ga fenil radikali mogu nositi jedan do pet atoma halogena i/ili jedan do tri slijedeća radikala: C1-C4-alkil, C1-C4-haloalkil, C1-C4-alkoksi i/ili C1-C4-alkiltio; Y je sumpor, kisik ili jednostruka veza; Z je sumpor, kisik, -SO-, SO2- ili jednostruka veza. Patent sadrži još 15 patentnih zahtjeva. |
