发明名称 | 用于控制大量生产的辐射体的比吸收率的设备 | ||
摘要 | 本发明涉及一种设备,用于控制大量生产的辐射体的比吸收率。本发明设备的特征在于:它包括至少一个传感器以及至少一个处理单元,其中传感器用于测定由位于区域中的物体所辐射的能量,处理单元用于分析这样测定的能量。上述传感器由一个波导组成,其包括一个设置在测试区对面的开口以及至少一个设置在波导内部的测量探针。 | ||
申请公布号 | CN1839321A | 申请公布日期 | 2006.09.27 |
申请号 | CN200480023901.7 | 申请日期 | 2004.08.18 |
申请人 | 成像微波技术应用公司 | 发明人 | P·加罗;L·迪歇纳;J-C·博洛梅 |
分类号 | G01R29/08(2006.01) | 主分类号 | G01R29/08(2006.01) |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟 |
主权项 | 1.一种设备,用于控制大量生产的辐射体的比吸收率,其特征在于:它包括至少一个传感器以及至少一个处理单元,其中传感器用于测定处于所述区域平面的物体辐射的能量,处理单元用于分析这样测定的能量,该传感器包括一个波导,显示了一个设置在测试区对面的开口以及至少一个设置在所述波导内部的测量探针。 | ||
地址 | 法国勒雨里斯 |