发明名称 |
优化可制造性的集成电路设计 |
摘要 |
分析库设计元件(102)的可制造性,将用于设计使用特定制造工艺制造的IC芯片。获得来自库的库设计元件。对于特定制造工艺确定库设计元件的可制造性属性(104),其中,可制造性属性包括成品率相关属性。然后,对于库设计元件生成具有可制造性属性的库视图(106),由电子设计自动化(EDA)工具使用。 |
申请公布号 |
CN1839389A |
申请公布日期 |
2006.09.27 |
申请号 |
CN03827080.3 |
申请日期 |
2003.09.16 |
申请人 |
PDF全解公司 |
发明人 |
卡尔罗·瓜尔迪亚尼;尼可拉·达拉格恩;约翰·卡巴里安;恩里科·马拉维斯;拉蒂博尔·拉多杰西科;安杰伊·斯特罗伊瓦斯 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01) |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种分析库设计元件的可制造性的方法,用于设计使用特定制造工艺制造的IC芯片,所述方法包括:从库获得库设计元件;对于所述特定制造工艺确定所述库设计元件的可制造性属性,其中,可制造性属性包括与成品率有关的属性;以及对于所述库设计元件生成具有可制造性属性的库视图,其中,由电子设计自动化(EDA)工具使用所述库视图。 |
地址 |
美国加利福尼亚 |