| 发明名称 | 半导体合成装置、打印头和成像装置 | ||
| 摘要 | 一种半导体合成装置，包括：第一衬底(101)、半导体薄膜层(104，304，404)、有源器件(104a)、第一驱动电路(102，602)以及第二驱动电路(103，503，603)。半导体薄膜层形成在第一衬底上并由第一半导体材料形成。有源器件在所述半导体薄膜层中形成。第一驱动电路由第二半导体材料形成并执行驱动所述有源器件的第一功能。第二驱动电路由第三半导体材料形成并执行驱动所述有源器件的第二功能，第二功能不同于第一功能。 | ||
| 申请公布号 | CN1838424A | 申请公布日期 | 2006.09.27 |
| 申请号 | CN200610071646.4 | 申请日期 | 2006.03.27 |
| 申请人 | 冲数据株式会社 | 发明人 | 荻原光彦;藤原博之;武藤昌孝;铃木贵人;猪狩友希 |
| 分类号 | H01L27/15(2006.01) | 主分类号 | H01L27/15(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘红;梁永 |
| 主权项 | 1.一种半导体合成装置，包括：第一衬底(101)；半导体薄膜层(104，304，404)，所述半导体薄膜层形成在所述第一衬底上并由第一半导体材料形成所述半导体薄膜层；有源器件(104a)，在所述半导体薄膜层(104)中形成；第一驱动电路(102，602)，由第二半导体材料形成，执行驱动所述有源器件的第一功能；第二驱动电路(103，503，603)，由第三半导体材料形成，执行驱动所述有源器件的第二功能，所述第二功能不同于所述第一功能。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||