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发明名称 METHOD FOR IMPLANTING IONS INTO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100628348(B1) 申请公布日期 2006.09.27
申请号 KR20040060760 申请日期 2004.08.02
申请人 发明人
分类号 H01L21/265;H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
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