曝光装置及曝光方法和配线印制电路板的制造方法

摘要

本发明提供的无掩模曝光装置，在将光源发出的光束按照被曝光图案调制，不通过光掩模直接描绘曝光的曝光装置中设置：装载形成有对紫外线光具有灵敏度的感光性树脂层的被曝光印制电路板走行的载物台；发出含有波长300nm～410nm范围的至少一部分的波长成分的光的第1光源；用于将上述第1光源发出的光束基于期望的被曝光图案数据调制，在位于上述载物台上的上述感光性树脂层上使图案成像的第1照射光学系；发出含有波长450nm～25000nm范围的至少一部分波长成分的光的第2光源，在为使至少含有由上述第1照射光学系曝光描绘的第1照射区域而设定的第2照射区域上将上述第2光源发出的光束导光的第2照射光学系。也提供该无掩模曝光装置的曝光方法和配线印制电路板制造方法。

主权项

1.一种将光源发出的光束按照被曝光图案调制，不通过光掩模直接描绘曝光的曝光装置，其特征在于，具有：装载形成有对紫外线光具有灵敏度的感光性树脂层的被曝光印制电路板走行的载物台；发出含有波长300nm～410nm范围的至少一部分的波长成分的光的第1光源；用于将上述第1光源发出的光束基于期望的被曝光图案数据调制，在位于上述载物台上的上述感光性树脂层上使图案成像的第1照射光学系；发出含有波长450nm～2500nm范围的至少一部分波长成分的光的第2光源；在为使至少含有由上述第1照射光学系曝光描绘的第1照射区域而设定的第2照射区域上将上述第2光源发出的光束导光的第2照射光学系。