| 发明名称 |
Compositions for cleaning organic and plasma etched residues for semiconductor devices |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
HK1041020(A1) |
申请公布日期 |
2006.09.22 |
| 申请号 |
HK20020102776 |
申请日期 |
2002.04.12 |
| 申请人 |
EKC TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
SMALL, ROBERT, J.;JUN CHENG |
| 分类号 |
C11D7/10;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/32;C11D3/43;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D11/00;G03F7/42;(IPC1-7):C11D;G03F |
主分类号 |
C11D7/10 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
