发明名称 具耐黄变及低密度薄膜之鞋具
摘要 一种具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,该鞋具由鞋底及鞋面构成,而鞋面之材料系由薄膜层与皮革层以高周波方式贴合形成,其中皮革层的材料系为人造皮或织物层;薄膜层系为苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(Styrene-Ethylene/Butylene-Styrene Block Copolymer, SEBS)、聚烯烃弹性体(Polyolefin Elastomer, POE)、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物(Ethylene-Vinyl Acetate, EVA)及滑剂所混合制成,制成之薄膜层经300w之UV灯泡以距离25公分,于50度环境下持续照射24小时,取出与ASTM-D1148标准之色卡进行比较,其变黄之指数为4~5级,可知本创作之薄膜层可达到耐黄变之功效。
申请公布号 TWM297647 申请公布日期 2006.09.21
申请号 TW095201614 申请日期 2006.01.24
申请人 东化国际有限公司 发明人 刘虣虣;黄赐源;陈清洲
分类号 A43B23/00 主分类号 A43B23/00
代理机构 代理人 欧奉璋 台北市信义区松山路439号3楼
主权项 1.一种具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,该鞋具至少包括有一鞋底及一设置于鞋底上之鞋面;其特征在于:该鞋面之材料系由一皮革层及一薄膜层以高周波方式贴合形成;其中,该皮革层之材料系为人造皮革或织物,该薄膜层系为苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物、聚烯烃弹性体、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物及滑剂所混合制成。2.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层中苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物系约为5-50%。3.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层中聚烯烃弹性体系约为30-80%。4.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层中乙烯/醋酸乙烯酯共聚物系约为5-15%。5.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该滑剂系可为石蜡或胺系。6.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物、聚烯烃弹性体、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物及滑剂系以一具有双螺杆之混练机于摄氏180-250度下均匀混合成一流体状,之后再以具有双螺杆之押出机将混合后之流体状物质于摄氏180度下进行押出造粒而形成一颗粒素材。7.依申请专利范围第6项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该颗粒素材系以T型模头(T-DIE)押出而形成初胚,之后以滚轮辗压形成薄膜层。8.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层之密度系小于1。9.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层之厚度系介于0.17-2.0mm之间。10.依申请专利范围第1项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层于混合时系可加入所需之颜料,使该薄膜层具有所需之颜色。11.一种具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,该鞋具至少包括有一鞋底及一设置于鞋底上之鞋面;其特征在于:该鞋面之材料系由一皮革层、一图案层及一薄膜层以高周波方式贴合形成;其中,该皮革层之材料系为人造皮革,该薄膜层系为苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物、聚烯烃弹性体、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物及滑剂所混合制成。12.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层中苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物系约为5-50%。13.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具;其中,该薄膜层中聚烯烃弹性体系约为30-80%。14.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层中乙烯/醋酸乙烯酯共聚物系约为5-15%。15.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该滑剂系可为石蜡或胺系。16.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该苯乙烯-乙烯∕丁烯-苯乙烯嵌段共聚物、聚烯烃弹性体、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物及滑剂系以一具有双螺杆之混练机于摄氏180-250度下均匀混合成一流体状,之后再以具有双螺杆之押出机将混合后之流体状物质于摄氏180度下进行押出造粒而形成一颗粒素材。17.依申请专利范围第16项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该颗粒素材系以T型模头押出而形成初胚,之后以滚轮辗压形成薄膜层。18.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层之密度系小于1。19.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层之厚度系介于0.17-2.0mm之间。20.依申请专利范围第11项所述之具耐黄变及低密度薄膜之鞋具,其中,该薄膜层于混合时系可加入所需之颜料,使该薄膜层具有所需之颜色。图式简单说明:第1A图,系本创作鞋具之示意图。第1B图,系本创作局部鞋面放大剖面示意图。第2图,系本创作薄膜层之示意图。第3图,系本创作制作薄膜层之步骤a示意图。第4图,系本创作制作薄膜层之步骤b示意图。第5图,系本创作制作薄膜层之步骤c示意图。第6图,系本创作制作薄膜层之步骤d示意图。第7图,系本创作制作鞋面示意图。第8图,系本创作之另一鞋面结构示意图。
地址 桃园县龟山乡文化路3段63号3楼之2