| 主权项 |
1.一种基板交换单元,是在基板,及覆盖上述基板的特定部分的磁性体所成的掩罩,及具有磁性体且使用上述磁性体而保持上述基板与保持掩罩的托架的成膜装置的托架保持具之间授受上述基板、掩罩与托架基板的交换单元,其特征为具备:具有使用于从上述托架保持具,与上述基板及掩罩一起接受上述托架时,及保持上述基板、掩罩及托架时的托架装卸手段的基板交换柄;与上述基板的交换柄正对,且在与上述基板交换柄之间,使用磁力授受上述基板,掩罩及托架的头部;具有将上述掩罩固定于其表面的掩罩固定手段,在与上述基板交换柄不相同的位置,与上述头部正对,使用上述掩罩固定手段在与上述头部之间进行上述掩罩与基板的授受的平台;以及存在于上述基板交换柄与上述平台之间,冷却将上述基板与掩罩保持在交接于上述平台后的上述头部的上述托架的等待位置。2.如申请专利范围第1项所述的基板交换单元,其中,上述基板交换柄的上述托架装卸手段,是与设于上述托架的从特定宽度所成的上述托架的表面贯通至背面的小径部分的长孔,及具有比设于其端部的上述宽度更大直径的贯通孔所成的大径部分所成的托架装卸孔协动者,在上述基板交换柄具有对于固定上述基板,掩罩与托架的上述基板可朝垂直方向旋转的基板固定部,及设在对应于上述基板固定部的上述托架装卸孔的位置的其前端部具有比上述大径部分的直径更小且比上述长孔的宽度更大直径的大径部,具有比上述长孔的宽度更小的直径,同时具有比上述长孔的深度更大长度的托架固定销所成者。3.一种基板交换单元,是在基板,及覆盖上述基板的特定部分的掩罩,及保持上述基板与保持上述掩罩的托架的成膜装置的托架保持具之间授受成膜前与成膜后的上述基板、掩罩与托架的基板交换单元,其特征为具有:对于上述托架保持具授受上述成膜前与成膜后的基板掩罩与托架的基板交换柄;装载有上述成膜前与成膜后的基板与掩罩的平台;以及由上述基板交换柄接受上述成膜后的基板、掩罩与托架,对于上述平台交接上述成膜后的基板与掩罩,在保持上述托架的状态下等待特定时间之后,由上述装载台接受上述成膜前的基板与掩罩的臂头。4.一种基板交换方法,是在基板,及覆盖上述基板的特定部分的磁性体所成的掩罩,及具有磁性体且使用上述磁性体而保持上述基板与保持掩罩的托架的成膜装置的托架保持具之间授受上述基板、掩罩与托架的基板交换方法,其特征为:藉由基板交换柄,由上述托架保持具接受上述基板、掩罩与托架的工序;藉由臂头,由上述基板交换柄接受上述基板、掩罩与托架的工序;将上述基板与掩罩从上述臂头装载于平台上的工序;将上述平台上的上述基板与掩罩交换成新的基板与掩罩的工序;藉由上述臂头,与上述托架一起保持上述平台上的上述新的基板与掩罩,并交接至上述基板交换柄的工序,以及藉由上述基板交换柄,将上述新的基板与掩罩及上述托架交接至上述托架保持具的工序所构成;在交换上述平台上的基板与掩罩时,进行冷却被保持在上述臂头的上述托架。图式简单说明:第1图是表示本发明的基板交换单元及溅镀装置的平面上的概略构成的图式。第2图是表示从正面观看托架的状态的概略构成的图式。第3图是表示在基板交换柄与第1及第2臂头之间授受基板、掩罩及托架时的状态的剖视概略的图式。第4图是表示在托架保持具与基板交换柄之间授受基板、掩罩及托架时的状态的剖视概略的图式。第5图是表示基板及掩罩被保持在第1及第2平台上的状态的剖视概略的图式。第6图是表示第1及第2臂头保持托架之状态的剖视概略的图式。 |
