发明名称 碟片原版之制作方法
摘要 一种碟片原版之制作方法,其包含:提供一热源于一基板处;涂布一光阻层于基板之上;雷射刻版并显影光阻层;以及形成一金属层于光阻层。
申请公布号 TWI262497 申请公布日期 2006.09.21
申请号 TW094111724 申请日期 2005.04.13
申请人 精碟科技股份有限公司 发明人 谢明贤;林文祺;庄振宏
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 刘正格 台北市大同区重庆北路3段88号3楼之1
主权项 1.一种碟片原版之制作方法,其包含:提供一热源于一基板中央处;涂布一光阻层于该基板之上;雷射刻版并显影该光阻层;以及形成一金属层于该光阻层。2.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该碟片原版系用于光记录媒体之一碟片模版的制作。3.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该热源系为一加热器。4.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该热源系具有一加热器与一金属块。5.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该热源系为一光源。6.如申请专利范围第5项所述之碟片原版之制作方法,该光源更具有一光纤束,其系用以控制该光源于该基板照射面积。7.如申请专利范围第5项所述之碟片原版之制作方法,该光源更具有一透镜,其系用以控制该光源于该基板照射面积。8.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该光阻层厚度系随该基板半径增加而递增。9.如申请专利范围第8项所述之碟片原版之制作方法,其中该光阻层厚度系随该基板半径增加而呈线性增加。10.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,更包含:涂布一接着剂于该基板上。11.如申请专利范围第10项所述之碟片原版之制作方法,其中该接着剂系为一界面活性剂。12.如申请专利范围第10项所述之碟片原版之制作方法,其中该接着剂系为一黏合促进剂。13.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,更包含:烘烤该光阻层。14.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该金属层系利用溅镀或蒸镀方式形成。15.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该基板之材质系为玻璃。16.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该基板之材质系为石英。17.如申请专利范围第1项所述之碟片原版之制作方法,其中该基板材质系为一陶瓷材料。图式简单说明:图1系为习知碟片原版之一示意图;图2系为习知之涂布光阻层于基板上以制造碟片原版光阻层厚度与基板半径之关系;图3系为本发明碟片原版制作方法之一流程图;图4系为本发明碟片原版制作方法之一示意图;图5系为本发明碟片原版制作方法之一示意图,显示热源加热基板之状态;图6系为本发明碟片原版制作方法之一示意图,显示热源加热基板之另一状态;图7系为本发明碟片原版制作方法之示意图,其系显示光阻层厚度与半径之关系;图8系为本法明碟片原版制作方法之示意图,其系显示光阻层厚度与半径之另一关系;图9系为本发明碟片原版制作方法之另一流程图;以及图10系为本发明碟片原版制作方法之示意图,显示热源加热基板之又一状态。
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