发明名称 感光性板状构件吸附机构及图像记录装置
摘要 本发明之目的是获得感光性板状构件吸附机构,及具备有该感光性板状构件吸附机构之图像记录装置,其中具有简单之构造,即使是大小不同之感光性板状构件亦可以有效的利用负压之吸引力,确实的吸附在载物台。本发明之解决手段是在载物台152内,安装与吸附孔172之各个对应之气缸构件176,被收容在其内部之活塞构件178,被压缩线圈弹簧182偏移向上方。在装载面152P上来装载有基板150之状态,活塞构件178利用压缩线圈弹簧182之偏移力成为在闭塞位置,用来闭塞吸附孔172。当装载有基板150时,活塞构件178抵抗压缩线圈弹簧182之偏移力成为在开放位置,因为吸附孔172被开放,所以可以利用负压之吸引力,吸引基板150。
申请公布号 TWI262535 申请公布日期 2006.09.21
申请号 TW093116498 申请日期 2004.06.09
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 上村宽
分类号 H01L21/00;B25J15/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种感光性板状构件吸附机构,其特征是具有: 载物台,可以将感光性板状构件装载在装载面上; 多个吸附孔,形成在该装载面上,用来吸附被装载 之感光性板状构件; 开闭构件,被设置成与该多个吸附孔之各个对应, 可以在使吸附孔开放之开放位置和使吸附孔闭塞 之闭塞位置之间移动;和 移动装置,用来使该移动构件之各个移动,成为在 该装载面装载有感光性板状构件之区域之吸附孔 在开放位置,在装载面未装载有感光性板状构件之 区域之吸附孔在闭塞位置。 2.如申请专利范围第1项之感光性板状构件吸附机 构,其中该移动装置之构成包含有: 被按压部,被设在该开闭构件,在开闭构件之闭塞 位置,从装载面突出,在开放位置被按压到感光性 板状构件,在吸附孔内进行后退;和 偏移装置,用来将该开闭构件偏移向闭塞位置。 3.如申请专利范围第2项之感光性板状构件吸附机 构,其中该开闭构件之移动方向是利用载物台内之 负压施加在开闭构件之力之正交方向。 4.一种图像记录装置,其特征是具有: 申请专利范围第1至3项中任一项之感光性板状构 件吸附机构;和 图像记录装置,用来在被该感光性板状构件吸附机 构吸附在装载面上之感光性板状构件,记录图像。 5.如申请专利范围第4项之图像记录装置,其中该图 像记录装置是使雷射光照射在感光性板状构件藉 以进行图像记录之雷射记录装置。 图式简单说明: 第1图是斜视图,用来表示本发明之第1实施例之图 像记录装置之外观。 第2图是斜视图,用来表示本发明之第1实施例之图 像记录装置之扫瞄器之构造。 第3(A)图是平面图,用来表示形成在感光材料之曝 光过区域,第3(B)图表示利用各个曝光头曝之曝光 区域之排列。 第4图是斜视图,用来表示本发明之第1实施例之曝 光头之概略构造。 第5(A)图是表示第4图所示之曝光头之构造之沿着 光轴之副扫瞄方向之剖面图,第5(B)图是第5(A)图之 侧面图。 第6图是部份扩大图,用来表示本发明之第1实施例 之曝光头之数位微镜装置(DMD)之构造。 第7(A)图和第7(B)图是说明图,用来说明本发明之第1 实施例之曝光头之DMD之动作。 第8图是剖面图,用来表示具备有本发明之第1实施 例之基板吸附机构之载物台。 第9图是剖面图,用来表示本发明之第1实施例之基 板吸附机构,第9(A)图是未装载有基板之状态,第9(B) 图是装载有基板之状态。 第10图是剖面图,用来表示本发明之第2实施例之基 板吸附机构,第10(A)图是未装载有基板之状态,第10( B)图是装载有基板之状态。 第11图是剖面图,用来表示本发明之第3实施例之基 板吸附机构。 第12图是平面图,用来说明利用扫瞄器之1次之扫瞄 使感光材料曝光之曝光方式。 第13(A)图和第13(B)图是平面图,用来说明利用扫瞄 器之多次之扫瞄使感光材料曝光之曝光方式。
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