| 主权项 |
1.一种制造光学玻璃产品之模仁,其包括: 模仁基体,及 位于模仁基体表面之膜层,此膜层之材料包括(ZrO2) x(Y2O3)y(Al2O3)z,其中x等于0.77~0.92,y等于0.05 ~0.15,z等 于0.03~0.08。 2.如申请专利范围第1项所述之制造光学玻璃产品 之模仁,其中上述膜层之厚度为100~500埃。 3.如申请专利范围第1项所述之制造光学玻璃产品 之模仁,其中上述模仁基体可选择SiC、Si、Si3N4、 ZrO2、TiN、TiO2、TiC、B4C、WC、W或WC-Co合金。 4.一种制造光学玻璃产品之模仁之制造方法,包括 以下步骤: 提供一模仁基体; 加热该模仁基体;及 于真空环境中沈积(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料于上述模 仁基体之表面,其中沈积(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料之 沈积率为3.3~8.3埃/秒,沈积时间为12~150秒,使得(ZrO2) x(Y2O3)y(Al2O3)z材料之膜层形成于其表面,其中x等于0 .77~0.92,y等于0.05~0.15,z等于0.03~0.08。 5.如申请专利范围第4项所述之模仁之制造方法,其 中(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z 材料之膜层系于10-6Torr以下之 压力环境下形成。 6.一种制造光学玻璃产品之模仁之制造方法,包括 以下步骤: 提供一模仁基体; 加热该模仁基体; 通入氩气与氧气,其中氩气之流量为20~40sccm,氧气 之流量为5~10sccm;及 于氩气与氧气气氛下沈积(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料于 上述模仁基体之表面,其中沈积(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z 材料之沈积率为3.3~8.3埃/秒,沈积时间为12~150秒,使 得(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料之膜层形成于其表面,其 中x等于0.77~0.92 ,y等于0.05~0.15,z等于0.03 ~0.08。 7.如申请专利范围第4或6项所述之模仁之制造方法 ,其中(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料之膜层系由离子轰击( ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z材料从而产生颗粒沈积于模仁基 体表面而形成。 8.如申请专利范围第4或6项所述之模仁之制造方法 ,其中上述模仁基体可选择SiC、Si、Si3N4、ZrO2、TiN 、TiO2、TiC、B4C、WC、W或WC-Co合金。 9.如申请专利范围第4或6项所述之模仁之制造方法 ,其中沈积(ZrO2)x(Y2O3)y(Al2O3)z膜层之厚度为100~500埃 。 图式简单说明: 第一图系本发明之模仁之示意图; 第二图系本发明之射频溅射设备之示意图。 |
