发明名称 |
蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺 |
摘要 |
本发明涉及光电子器件的加工方法技术领域,尤其是一种制备蓝色发光二极管(LED)氮化镓(GaN)所用的蓝宝石衬底晶片的加工工艺,该加工工艺由粘片、塑性域磨削、研磨、粗抛、精抛、净化等几个步骤组成;本发明还涉及蓝宝石衬底晶片加工过程中使用的专用研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液,所述的专用研磨液由:球状聚晶金刚石微粉、橄榄油、煤油、色拉油构成;专用腐蚀液由:硫酸、磷酸、硝酸构成;专用抛光液则由溶胶型SiO<SUB>2</SUB>、聚氧乙烯、橄榄油、醇胺以及去离子水构成;专用清洗液由:三氯乙烷、丙酮、A清洗液、B清洗液构成;当上述加工工艺和专用的研磨液、腐蚀液、抛光液和清洗液配合使用时,可以获得开盒即用的、无损伤层的、晶格完整的、蓝宝石晶体表面,表面粗糙度达到0.2纳米以下,满足氮化镓外延生长所需的本征化蓝宝石衬底表面,不仅提高蓝宝石衬底晶片的质量,而且大大缩短制备周期,从而节约生产成本,又达到提高劳动生产率的目的。 |
申请公布号 |
CN1833816A |
申请公布日期 |
2006.09.20 |
申请号 |
CN200510095519.3 |
申请日期 |
2005.11.23 |
申请人 |
周海 |
发明人 |
周海 |
分类号 |
B24B7/20(2006.01);B24B37/04(2006.01);B24B29/02(2006.01) |
主分类号 |
B24B7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.蓝宝石晶片纳米级超光滑加工工艺,其特征在于它由塑性域磨削、微米级研磨、化学方法晶片平整化处理、纳米级化学机械抛光、开盒即用的晶片净化等几个关键步骤组成。 |
地址 |
224003江苏省盐城市黄海中路20号 |